ナノインプリントリソグラフィ

概要

ナノインプリントリソグラフィ（NIL）は、微細なパターンを持つモールドを材料に押し当てて形を転写し、ナノ構造を作る方法である。米国標準技術研究所（NIST）は、NILが10nm未満の構造を、犠牲層となるレジストだけでなく機能性材料にも直接形成できると説明している。

技術的な要点

NISTの解説によれば、熱エンボス方式のNILは、粘性を持つ高分子の溶融体が圧力によってモールドの空洞へ流れ込むことを利用する。対象は、データストレージ媒体、高輝度LED、ディスプレイ、センサー、ラボオンチップ、半導体などである。

実用化に向けた課題は計測にある。NISTは、パターン形状の忠実度と断面の解析、インプリントしたパターンに残る残留応力の定量、多孔質誘電体のような機能性材料での細孔特性の変化を、測定が必要な項目として挙げている。

産業での位置づけ

NISTは、NILが商業的なナノ製造へ移行する段階にあるとして、その普及を支える測定技術の開発と実証に取り組んでいる。