CCRAFT Secures Innosuisse Support to Boost Swiss Photonic Chip Manufacturing for AI Data Centers
薄膜ニオブ酸リチウム(TFLN)フォトニック集積回路の独立系ファウンドリであるCCRAFTが、2年間の製造能力強化に向けてInnosuisseから250万スイスフランの支援を獲得した。本プログラムは、超高速かつ省エネルギーな光インターコネクトを必要とするAIデータセンター向けの次世代フォトニックチップを対象とする。CCRAFTは2026年にデータコム向けプロセス・デザイン・キットの提供を計画している。2027年には量産認定の達成を目指し、TFLNチップの欧州製造基盤を構築する。
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