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Forge Nano、アスペクト比1000:1の技術を含む業界最先端の半導体 ALD コーティング能力をマレーシアの主要ファブ向けに披露

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Forge Nano to Showcase Industry-Leading Semiconductor ALD Coating Capabilities, Including 1000:1 High Aspect Ratio Innovation, to Leading Fabs in Malaysia

Forge Nano は、5月6日にクアラルンプールで技術セミナーを開催し、マレーシアの半導体メーカー向けに原子層堆積（ALD）コーティング技術を紹介すると発表した。同社は、アスペクト比1000:1までの構造を均一に被覆できる高速 ALD の実証という最近の成果を強調した。セッションでは、フォトニクス、RF デバイス、先端パッケージングなどの応用に関する技術データが示される。

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