Nearfield Instruments、半導体メトロロジー高度化に向けた複数年の開発プロジェクトを締結

NEARFIELD INSTRUMENTS SIGNS MULTI-YEAR DEVELOPMENT PROJECT TO ADVANCE SEMICONDUCTOR METROLOGY

Nearfield Instruments は Imec との複数年にわたる協業を発表し、Imec のルーヴェン拠点に QUADRA システムを設置する。対象は high-NA EUV リソグラフィ向け計測、CFET など先端ロジックデバイスの3Dプロファイリング、hybrid bonding 向けの3Dヘテロジニアス集積計測である。同社の走査プローブ技術と Imec の研究基盤を組み合わせる。AI チップ時代の製造課題への対応を目的として掲げている。