AlixLabs、SPIE Advanced Lithography + Patterning 2026 で発表へ

AlixLabs to Present at SPIE Advanced Lithography + Patterning 2026

AlixLabs は、SPIE Advanced Lithography + Patterning 2026 に2件のアブストラクトが採択され、2026年2月24日にサンノゼで発表すると明らかにした。発表内容は、同社の APS（原子層エッチングによるピッチスプリッティング）技術をナノインプリントリソグラフィおよび自己整合四重パターニングに適用したものである。うち1件は United Microelectronics Corporation（UMC）との共同発表となる。それぞれ13nm 未満、および約12nm のハーフピッチパターニングの実現を示す予定だ。

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