HyperLight

薄膜ニオブ酸リチウムのフォトニック集積回路を開発する米国企業

概要

薄膜ニオブ酸リチウム（TFLN）技術を用いたフォトニック集積回路を開発する。AIデータセンターや通信網向けに200G/400Gレーン級の光インターコネクト製品を手がける。

創業の背景

HyperLightは米国マサチューセッツ州ケンブリッジに本社を置き、薄膜ニオブ酸リチウム（TFLN）を用いたフォトニック集積回路を開発する企業である。同社は、最良のフォトニクス材料を量産プロセスで活用する次世代の集積フォトニクス基盤の構築を目指すと説明している。ニオブ酸リチウムは高速変調器の材料として長く使われてきたが、同社は半導体の製造プロセスを応用して導波路を小型化することで、シリコンフォトニクスの限界を超える帯域と低電圧動作を実現するTFLN Chipletプラットフォームを開発した。AIデータセンターや通信、量子計算などへの応用を掲げている。

出典: hyperlightcorp.com / hyperlightcorp.com